Prozessmaterialien (Gase, Chemikalien)
Was ist die Hauptanwendung von Stickstofftrifluorid (NF3)?
- ALichtquelle von Belichtungsanlagen
- BHauptbestandteil von Galvanikbädern
- CReinigung, um an den Kammerwänden von CVD-Anlagen haftende Filme zu entfernen
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Antwort: C. Reinigung, um an den Kammerwänden von CVD-Anlagen haftende Filme zu entfernen
Bei wiederholter CVD scheiden sich auch an den Innenwänden der Kammer Filme ab, die sich ablösen und Partikel verursachen. Mit durch Plasmazerlegung von NF3 erzeugten Fluorradikalen werden diese Ablagerungen in flüchtige Fluoride umgewandelt und entfernt. Gängig ist das Remote-Plasma-Verfahren, bei dem das Plasma außerhalb der Kammer erzeugt und nur Radikale eingeleitet werden, was Schäden an Bauteilen mindert. Das Treibhauspotenzial von NF3 beträgt etwa das 16000-Fache von CO2, daher wird es in einer Abgasbehandlungsanlage zersetzt und abgeleitet.