공정 재료(가스와 케미칼)

삼불화질소(NF3)의 주된 용도는 무엇입니까?

  1. A노광 장치의 광원
  2. B도금액의 주성분
  3. CCVD 장치의 챔버 내에 부착된 막을 제거하는 세정
정답과 해설 보기

정답: C. CVD 장치의 챔버 내에 부착된 막을 제거하는 세정

CVD를 반복하면 챔버 내벽에도 막이 부착되고, 이것이 벗겨져 파티클의 원인이 됩니다. NF3를 플라즈마로 분해하여 만든 불소 라디칼로 이 부착물을 휘발성 불화물로 만들어 제거합니다. 챔버 밖에서 플라즈마를 만들어 라디칼만 보내는 리모트 플라즈마 방식이 주류이며, 부품의 손상을 억제할 수 있습니다. NF3의 지구온난화지수는 CO2의 약 1만 6000배로 크므로, 제해 장치로 분해하여 배출합니다.

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