三氟化氮（NF3）的主要用途為下列何者？

正確答案：C. 清除附著在CVD設備腔體內的薄膜之清潔

反覆進行CVD後，腔體內壁也會附著薄膜，剝落後會成為微粒的來源。利用將NF3以電漿分解所產生的氟自由基，把這些附著物變成揮發性的氟化物而去除。主流是在腔體外產生電漿、只送入自由基的遠端電漿方式，可以減少對零件的損傷。NF3的全球暖化潛勢約為CO2的1萬6000倍，非常大，因此要以除害裝置分解後再排放。