Prozessmaterialien (Gase, Chemikalien)

Welches Material wird für CMP-Polierpads üblicherweise verwendet?

  1. AWolfram
  2. BGeschäumtes Polyurethan
  3. CQuarzglas
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Antwort: B. Geschäumtes Polyurethan

Für CMP-Pads wird häufig geschäumtes Polyurethan mit feinen Poren verwendet. In den Poren und Rillen der Oberfläche wird Slurry gehalten, über den ganzen Wafer verteilt und werden Polierrückstände abgeführt. Im Gebrauch setzen sich die Poren zu und die Abtragsrate sinkt, daher wird die Oberfläche mit einer diamantbesetzten Scheibe abgetragen und aufbereitet (Conditioning). Harte Pads sind besonders planarisierend, weiche Pads kratzen weniger, weshalb sie auch übereinander verwendet werden.

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