為了高靈敏度地分析晶圓表面的金屬汙染，以氫氟酸蒸氣溶解表面的氧化膜，並以液滴回收後送入分析設備的前處理方法是哪一種？

正確答案：C. VPD(氣相分解)法

在VPD法中，以氫氟酸蒸氣分解晶圓表面的自然氧化膜，再以少量液滴在其上掃描，收集並回收表面的金屬雜質。將回收的液體以ICP-MS或全反射螢光X光(TXRF)分析，就能以10⁸〜10⁹ atoms/cm²左右的靈敏度量測整片晶圓的金屬汙染。這是監控設備與藥液汙染、評估清洗製程不可或缺的方法。

• A. 四探針法是量測電阻率的方法。
• B. SEM觀察是看表面形狀的方法，不適合微量金屬的定量。
• C. 正確。把表面的汙染收集到液滴中進行分析。