製程材料（氣體與藥液） CMP的研磨墊一般使用的材料為下列何者？ A鎢 B發泡聚氨酯 C石英玻璃 查看答案與解析 正確答案：B. 發泡聚氨酯 CMP的研磨墊常使用具有細小孔隙的發泡聚氨酯。孔隙與表面的溝槽可保存研磨液並使其遍布整片晶圓，同時排出研磨屑。使用一段時間後孔隙會堵塞而使研磨速率下降，因此要以嵌有鑽石的圓盤刮削表面加以整修，稱為修整（conditioning）。較硬的研磨墊平坦性佳，較軟的研磨墊刮傷較少，因此也會疊合使用。