量測與分析

為了詳細調查剖面形狀,將晶圓剖開或削除後再觀察的方法,其特徵下列何者正確?

  1. A只能得知表面的污垢
  2. B因為是破壞性檢測,觀察過的晶圓或晶片無法直接作為產品
  3. C產品可以直接出貨
查看答案與解析

正確答案:B. 因為是破壞性檢測,觀察過的晶圓或晶片無法直接作為產品

在剖面的SEM或TEM觀察中,會將晶圓剖開或以FIB加工,因此觀察過的部分就無法作為產品使用(破壞性檢測)。所以會抽取產品晶圓,或使用評估專用的晶圓。相對地,可以直接確認膜的堆疊、填埋不良、側壁形狀等,從上方的非破壞量測無法得知的內部結構。

  • A. 可以詳細調查剖面的結構。
  • B. 正確。因為是破壞性檢測,無法作為產品。
  • C. 剖開或削除過的晶圓無法出貨。
練習這個領域 前往領域頁面

量測與分析的其他題目

  1. 在量測儀器的性能中,「不論對同一物體量測多少次,數值的變異都很小」與「量得的值接近真值」,這兩者的稱呼組合下列何者正確?
  2. 作為局部且非破壞地評估矽所承受的應力(應變),常用的光譜法是下列何者?
  3. 用於不破壞封裝,立體觀察封裝內部銲料接合的空洞(void)與打線形狀等的方法是下列何者?
  4. 廣泛用於非破壞地發現封裝內部的封裝樹脂與晶片等界面之分層(delamination)的設備是下列何者?
  5. 為了以非接觸方式評估化合物半導體的晶圓或磊晶層的品質,照射雷射光並量測所發出的光之光譜與強度分布的方法是下列何者?

這個領域的比較