量測與分析
橢圓偏振術(光譜橢偏儀)主要量測的是下列何者?
- A對試片通電時的電阻
- B由反射光偏振狀態的變化求得的薄膜膜厚與折射率
- C以離子濺蝕過的試片之質譜
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正確答案:B. 由反射光偏振狀態的變化求得的薄膜膜厚與折射率
橢圓偏振術是將偏振光斜向照射,量測反射光p偏振與s偏振的振幅比(Ψ)與相位差(Δ),再與以光學模型計算出的值擬合,求出薄膜的膜厚與折射率。改變波長來量測的光譜橢偏儀也能分析多層膜,可得到0.1 nm以下的再現性。由於是非接觸、非破壞,廣泛用於氧化膜等的膜厚管理。電阻與質譜並非其量測對象。