量測與分析
關於掃描式電子顯微鏡（SEM）的原理，下列何者正確？
- A以聚焦成細束的電子束在試片表面掃描，偵測產生的二次電子等來觀察表面形狀
- B由X光繞射來調查晶體結構
- C由光的干涉來量測膜厚
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正確答案：A. 以聚焦成細束的電子束在試片表面掃描，偵測產生的二次電子等來觀察表面形狀
SEM以聚焦成細束的電子束在試片表面掃描，偵測由此射出的二次電子或背向散射電子來成像。能量低的二次電子只能從表面極淺處逸出，因此能清楚呈現凹凸；背向散射電子在越重的元素上產生越多，可呈現組成的差異。解析度約為1 nm左右。在工廠中，以低加速電壓量測圖案線寬的CD-SEM被用於製程管理。X光繞射與光的干涉則是其他的手法。