配線プロセス

Cuを電解めっきで埋め込む前に、スパッタリングで薄く形成するCu膜の役割として正しいものはどれか。

  1. ACuの拡散を防ぐバリア
  2. Bめっきの電流を流すための導電層(シード層)
  3. C層間の絶縁
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正解:B. めっきの電流を流すための導電層(シード層)

電解めっきでは、表面に電流を流して金属を析出させるため、溝の内面まで導電性の層が必要です。そこで、バリア層の上にスパッタリングで薄いCuのシード層をつくってから、めっきでCuを埋め込みます。

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