磊晶成長

磊晶層中產生的代表性晶體缺陷之一,原子面堆疊順序紊亂者為下列何者?

  1. A空洞(void)
  2. B凸丘(hillock)
  3. C堆疊缺陷(stacking fault)
查看答案與解析

正確答案:C. 堆疊缺陷(stacking fault)

堆疊缺陷是晶體原子面的堆疊順序(矽的{111}面為ABCABC…)局部紊亂的缺陷。在磊晶成長中,它以基板表面的污染、微粒或刮傷為起點產生,並在表面呈現三角形或四邊形的圖案,因此可由光學檢查計數。由於會造成元件漏電流等問題,成長前的清洗與氫烘烤表面處理很重要。

練習這個領域 前往領域頁面

磊晶成長的其他題目

  1. 在GaN等材料中,從遮罩的開口處成長晶體,並使其在遮罩上方橫向成長以減少差排的技術稱為什麼?
  2. 從熔融金屬的溶液等使晶體在基板上析出而成長的方法為下列何者?
  3. 使用三氯矽烷的矽磊晶成長,其一般成長溫度最接近下列何者?
  4. 在晶格常數較大且已鬆弛的SiGe層上磊晶成長薄矽層時,矽層中產生的應變為下列何者?
  5. 磊晶晶圓的品質中,主要管理的項目為下列何者?