磊晶成長

在CVD磊晶成長中,於相對低溫的區域,成長速率強烈依賴溫度。下列何者是正確的理由?

  1. A因為成長速率只由原料氣體的供應量決定
  2. B因為成長速率由表面化學反應的快慢決定(表面反應限速)
  3. C因為成長速率不依賴溫度
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正確答案:B. 因為成長速率由表面化學反應的快慢決定(表面反應限速)

低溫時表面的化學反應較慢,反應的快慢決定成長速率(表面反應限速)。反應速率依阿瑞尼斯方程式隨溫度呈指數變化,因此成長速率也強烈依賴溫度,晶圓面內的溫度均勻性會直接成為膜厚均勻性。高溫時反應夠快,原料氣體抵達表面的速度決定成長速率,成為供應限速(擴散限速),氣流的均勻性就變得重要。

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