シリコンウエハ

FZ法(フローティングゾーン法)で作製したシリコン単結晶の特徴として正しいものはどれか。

  1. A大口径化が最も容易で、300 mmウエハの主流の製法である
  2. B石英るつぼを使わないため酸素などの不純物が少なく、高抵抗の結晶を得やすい
  3. C多結晶シリコンを溶かさずに単結晶化する
答えと解説を見る

正解:B. 石英るつぼを使わないため酸素などの不純物が少なく、高抵抗の結晶を得やすい

FZ法は、多結晶シリコンの棒の一部を高周波加熱で帯状に溶かし、その溶融帯を移動させて単結晶化する方法です。るつぼを使わないため酸素の混入が少なく、高純度・高抵抗の結晶が得られることから、パワーデバイスなどに使われます。大口径化はCZ法の方が容易です。

この分野を解く 分野ページへ

シリコンウエハのほかの問題

  1. シリコンウエハの外周に設けるノッチ(小さな切り欠き)の主な役割はどれか。
  2. ゲッタリングの説明として正しいものはどれか。
  3. CZ法で育成したシリコン結晶に、るつぼから比較的多く取り込まれる不純物はどれか。
  4. 単結晶インゴットからウエハをつくる工程の順序として最も適切なものはどれか。
  5. SOIウエハの代表的な製造方法として正しいものはどれか。