リソグラフィ

誘導自己組織化(DSA)をEUV露光と組み合わせる使い方で期待されている効果として正しいものはどれか。

  1. AEUV露光のマスクが不要になる
  2. Bレジストの感度が上がり、EUVの光源の出力が不要になる
  3. CEUVでつくったパターンをガイドにして規則正しい周期に整え、確率的なばらつきによる線幅や凹凸のばらつきを小さくする
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正解:C. EUVでつくったパターンをガイドにして規則正しい周期に整え、確率的なばらつきによる線幅や凹凸のばらつきを小さくする

EUV露光では、1回の露光に使われる光子の数が少ないため、確率的なばらつき(ストカスティクス)によって線幅や線の端の凹凸がばらつきます。誘導自己組織化(DSA)では、ブロック共重合体の模様の周期が材料で決まるため、EUVでつくったパターンをガイドにして自己組織化させると、ばらつきを整えられると期待されています。imecやIntelなどが2020年代前半から結果を報告していますが、欠陥を極めて少なくすることが量産の課題です。

  • A. ガイドのパターンはEUV露光でつくるため、マスクは必要です。
  • B. DSAはレジストの感度や光源の出力の問題を解決するものではありません。
  • C. 正しい。ばらつきを整える(レクティフィケーション)使い方です。
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