EUVマスクで、多層膜の内部に埋もれた欠陥が問題になる理由として正しいものはどれか。

正解：B. 反射光の位相や強度が乱れ、ウエハ上のパターンの欠陥として転写されるため

EUVマスクの多層膜の中や下に微小な凹凸や異物があると、多層膜の積み重なりが乱れ、反射光の位相や強度が変化します。これがウエハに転写されて欠陥になります。表面からは見つけにくいため、EUV光を使った専用の検査装置なども開発されています。