配線プロセス

多くのLSIで、ワイヤボンディングを行う最上層の電極パッドに使われてきた金属はどれか。

  1. Aタングステン
  2. Bチタン
  3. Cアルミニウム
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正解:C. アルミニウム

内部の配線がCuになっても、最上層の電極パッドにはアルミニウムが広く使われてきました。アルミニウムは表面に薄く安定した酸化膜をつくるため腐食しにくく、金ワイヤや銅ワイヤとの接合の実績も豊富です。

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配線プロセスのほかの問題

  1. 配線の溝とビアを同時にCuで埋め込み、1回のCMPで形成する方法を何と呼ぶか。
  2. Cuを電解めっきで埋め込む前に、スパッタリングで薄く形成するCu膜の役割として正しいものはどれか。
  3. Cuの埋め込みが不十分で、ビアの中に空洞(ボイド)が残ると起こる問題として正しいものはどれか。
  4. 同じ層で隣り合う配線の間隔を半分にすると、その配線間の容量はおよそどうなるか。(平行平板として近似する)
  5. 上下の配線層の位置合わせのずれに強くするため、ビアを配線の溝に合わせて自己整合的に形成する技術はどれか。