エピタキシャル成長

MOCVD(有機金属気相成長法)が主に使われる用途はどれか。

  1. Aシリコンの熱酸化
  2. BCu配線のめっき
  3. CGaNなど化合物半導体のエピタキシャル成長
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正解:C. GaNなど化合物半導体のエピタキシャル成長

MOCVDは、トリメチルガリウムなどの有機金属とアンモニアなどの原料ガスを反応させて、化合物半導体の結晶を成長させる方法です。量産性に優れ、GaN系の青色・白色LEDや半導体レーザー、高周波デバイスの製造に広く使われています。

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