박막 증착(CVD와 PVD)

LPCVD로 폴리실리콘막을 성막하면서 인 등의 불순물을 포함한 가스를 동시에 흘려 도전성 막을 만드는 것을 무엇이라고 합니까?

  1. A인시튜(in-situ) 도핑
  2. B이온 주입
  3. C열산화
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정답: A. 인시튜(in-situ) 도핑

성막 중에 도펀트 가스(포스핀, 디보란 등)를 함께 흘려 막을 만듦과 동시에 불순물을 도입하는 방법을 인시튜(in-situ) 도핑이라고 합니다. 나중에 이온 주입이나 확산으로 불순물을 넣을 필요가 없고, DRAM 커패시터 전극과 같은 깊은 트렌치나 홀 안의 막에도 불순물을 균일하게 넣기 쉽다는 장점이 있습니다. 다만 도펀트 가스에 따라 성막 속도나 균일성이 달라지므로 조건 조정이 필요합니다.

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