Analysemethode die uit de energie van foto-elektronen die onder röntgenbestraling vrijkomen de elementen en de toestand van de chemische bindingen in de bovenste enkele nm van het oppervlak bepaalt.
Japanse benaming: XPS(X線光電子分光法)
“XPS (röntgenfoto-elektronenspectroscopie)” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Metrologie en analyse.
Vakgebied: Metrologie en analyse
Antwoord: B. XPS (röntgenfotoëlektronspectroscopie)
XPS meet de kinetische energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling uit het oppervlak vrijkomen en onderzoekt aan de hand van de daaruit bepaalde bindingsenergie het soort element en de chemische bindingstoestand. Zelfs bij hetzelfde Si ligt de waarde voor elementair Si bij ongeveer 99 eV en voor SiO2 bij ongeveer 103 eV, zodat de mate van oxidatie te zien is. Omdat fotoelektronen alleen uit een diepte van enkele nm kunnen ontsnappen, is het geschikt voor de evaluatie van dunne films, grensvlakken en oppervlaktebehandelingen. AFM meet de vorm en de vierpuntsmethode de weerstand.
XPS meet de kinetische energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling uit het oppervlak vrijkomen en onderzoekt aan de hand van de daaruit bepaalde bindingsenergie het soort element en de chemische bindingstoestand.
Welke analysemethode onderzoekt de elementen en chemische b…AFM (atomic force microscope) CD-SEM Defectinspectieapparaat EDX (energiedispersieve röntgenspectroscopie) Ellipsometrie FIB (focused ion beam) SEM (scanning-elektronenmicroscoop) SIMS (secundaire-ionenmassaspectrometrie) TEM (transmissie-elektronenmicroscoop) TXRF (total reflection X-ray fluorescence)