Nederlands
Menu

Wat is CD-SEM?

Scanning-elektronenmicroscoop voor het meten van de lijnbreedte (CD) van patronen. Wordt gebruikt voor dimensiebewaking na lithografie en etsen.

Japanse benaming: CD-SEM

“CD-SEM” komt voor in 4 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Metrologie en analyse, Lithografie.

Vakgebied: Metrologie en analyse

Nu oefenen: vragen over CD-SEM

Hoe heet het verschijnsel waarbij bij het meten met een CD-SEM van ArF-resistpatronen het patroon door de elektronenbestraling krimpt?

  1. AShrinkage (krimp van de resist door elektronenbundel)
  2. BCharge-up
  3. CDrift
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Shrinkage (krimp van de resist door elektronenbundel)

ArF-resist is gevoelig voor elektronenbundels; bij elektronenbestraling voor de meting worden moleculen ontleed, neemt het volume af en krimpt het patroon. Omdat de waarde bij elke meting verandert, wordt de bestralingsdosis verlaagd of wordt de krimp vooraf bepaald en gecorrigeerd. Charge-up is het verschijnsel waarbij lading zich op een isolator ophoopt en het beeld vervormt, en drift is het verschijnsel waarbij beeld- of apparaatwaarden in de tijd verschuiven; beide zijn geen krimpverschijnselen.

Hoe heet de benadering waarbij gegevens van meerdere verschillende meetmethoden (optisch, CD-SEM, AFM enz.) worden gecombineerd om afmetingen en vorm nauwkeuriger te bepalen dan met één methode alleen?

  1. ABlinde metrologie
  2. BHybride metrologie
  3. CSingle shot
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Hybride metrologie

Bij geavanceerde fijne structuren hebben afzonderlijke meetmethoden grenzen in meetbare grootheden en nauwkeurigheid. Bij hybride metrologie wordt bijvoorbeeld de met XRR nauwkeurig bepaalde laagdikte als vaste waarde in het analysemodel van optische maatmeting (OCD) gestopt, zodat de overige vormwaarden stabiel kunnen worden bepaald; zo compenseren de methoden elkaars zwakke punten en wordt een nauwkeuriger resultaat verkregen. Het is belangrijk te onderscheiden waarin elke methode goed is en die te combineren.

“CD-SEM” in de toelichting

Vragen met “CD-SEM” (4)

  1. Hoe heet het verschijnsel waarbij bij het meten met een CD-SEM van ArF-resistpatronen het patroon door de elektronenbestraling krimpt?
  2. Hoe heet de benadering waarbij gegevens van meerdere verschillende meetmethoden (optisch, CD-SEM, AFM enz.) worden gecombineerd om afmetingen en vorm nauwkeuriger te bepalen dan met één methode alleen?
  3. Wat is de juiste betekenis van „CDU”, dat in lithografie wordt beheerd?
  4. Welke uitspraak over het principe van de scanning-elektronenmicroscoop (SEM) is juist?

Verwante termen

AFM (atomic force microscope) SEM (scanning-elektronenmicroscoop) XRD (röntgendiffractie) Defectinspectieapparaat EDX (energiedispersieve röntgenspectroscopie) Ellipsometrie FIB (focused ion beam) SIMS (secundaire-ionenmassaspectrometrie) TEM (transmissie-elektronenmicroscoop) TXRF (total reflection X-ray fluorescence)

Naar de woordenlijst