Nederlands
Menu

Lithografie

Wat is de juiste betekenis van „CDU”, dat in lithografie wordt beheerd?

  1. ADe voedingsspanning van het belichtingsapparaat
  2. BDe variatie van de patroonafmeting (CD) binnen het waferoppervlak of binnen een shot
  3. CDe uniformiteit van de kleur van de resist
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. De variatie van de patroonafmeting (CD) binnen het waferoppervlak of binnen een shot

CD (critical dimension) is een belangrijke afmeting zoals de lijnbreedte, en CDU (CD uniformity) geeft de grootte van de variatie daarvan aan (3σ). Bij geavanceerde producten moet de variatie tot ongeveer 1 nm worden beperkt bij een lijnbreedte van enkele tientallen nm. Omdat de variatie van CD rechtstreeks leidt tot variatie van de transistoreigenschappen, wordt die klein gehouden door de belichtingsdosis binnen een shot te corrigeren en de temperatuurverdeling van de PEB op orde te brengen. Voor het meten worden CD-SEM en scatterometrie gebruikt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Hoe heet het materiaal waarbij op een kwartsglassubstraat vooraf een lichtblokkerende film en dergelijke is aangebracht en dat wordt gebruikt om fotomaskers te maken?
  2. Welke eigenschap van de methode waarbij zonder masker met een elektronenbundel rechtstreeks een patroon op de resist op de wafer wordt geschreven, is juist?
  3. Welke methode om licht van 13,5 nm te maken in de lichtbron van EUV-belichtingsapparatuur is juist?
  4. Hoe heet de behandeling waarbij na het aanbrengen van resist met spin-coating de aan de rand van de wafer opgehoopte resist met oplosmiddel wordt verwijderd?
  5. Wat is de gebruikelijke maximale grootte van het gebied dat in één belichting (één shot) op de wafer kan worden belicht met huidige scanner-belichtingsapparaten?

Vergelijkingen bij dit onderwerp