Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Wat is de belangrijkste reden dat als ontwikkelaar voor halfgeleiders een organisch alkali zoals TMAH wordt gebruikt in plaats van natriumhydroxide e.d.?

  1. AOmdat TMAH een sterkere kleur heeft
  2. BOmdat TMAH zeker goedkoper is
  3. COm verontreiniging door metaalionen zoals natrium te vermijden
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Om verontreiniging door metaalionen zoals natrium te vermijden

Alkalimetaalionen zoals natrium en kalium worden in een oxidelaag onder invloed van een elektrisch veld mobiele ionen en laten de drempelspanning van transistors variëren. Deze natriumverontreiniging was de belangrijkste oorzaak van de instabiliteit van de eerste MOS-componenten. TMAH is een metaalvrij organisch alkali en geeft dus geen zorgen over zulke verontreiniging. Kleur of prijs zijn geen redenen om het te kiezen, en TMAH is ook niet zeker goedkoper.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke uitspraak over de kenmerken van chloortrifluoride (ClF3), dat onder meer voor het reinigen van kamers van apparatuur wordt gebruikt, is juist?
  2. Wat is het juiste hoofdbestanddeel van het platingbad voor galvanisch koperplateren van Cu-bedrading?
  3. Welke uitspraak over risico’s in de toelevering van halfgeleidermaterialen is juist?
  4. Welk materiaal wordt gebruikt voor het substraat van fotomaskers voor ArF-belichting?
  5. Welke combinatie van materialen is juist voor de reflecterende meerlagen van EUV-maskers?