Nederlands
Menu

Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke waterige oplossing wordt gewoonlijk gebruikt voor het ontwikkelen van fotoresist?

  1. ATMAH-oplossing (tetramethylammoniumhydroxide)
  2. BZoutzuur
  3. CFluorwaterstofzuur
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. TMAH-oplossing (tetramethylammoniumhydroxide)

Voor het ontwikkelen van positieve resist wordt als industriestandaard een waterige oplossing van 2,38 % TMAH (ca. 0,26 N) gebruikt. De door belichting in alkali oplosbaar geworden delen lossen op en het patroon verschijnt. Door de concentratie gelijk te houden, is de ontwikkelsnelheid in elke fabriek goed reproduceerbaar. Zoutzuur en fluorwaterstofzuur zijn zuren en ontwikkelen resist niet. Er bestaat ook negatieve ontwikkeling, waarbij de onbelichte delen met een organisch oplosmiddel worden opgelost.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Wat is de belangrijkste reden dat als ontwikkelaar voor halfgeleiders een organisch alkali zoals TMAH wordt gebruikt in plaats van natriumhydroxide e.d.?
  2. Welke uitspraak over de kenmerken van chloortrifluoride (ClF3), dat onder meer voor het reinigen van kamers van apparatuur wordt gebruikt, is juist?
  3. Wat is het juiste hoofdbestanddeel van het platingbad voor galvanisch koperplateren van Cu-bedrading?
  4. Welke uitspraak over risico’s in de toelevering van halfgeleidermaterialen is juist?
  5. Welk materiaal wordt gebruikt voor het substraat van fotomaskers voor ArF-belichting?