Welk materiaal wordt gebruikt voor het substraat van fotomaskers voor ArF-belichting?

Antwoord: A. Synthetisch kwartsglas

Bij ArF-belichting (193 nm) wordt synthetisch kwartsglas, dat licht met korte golflengte goed doorlaat en weinig thermisch uitzet, als maskersubstraat gebruikt, waarop met een lichtafschermende chroomlaag of een fase-verschuivende laag het patroon wordt gemaakt. Natronkalkglas absorbeert diep-ultraviolet licht en zet sterk thermisch uit, dus het is onbruikbaar. Omdat er voor EUV geen materiaal is dat licht doorlaat, is het masker van het reflecterende type, met een meerlaagse structuur op glas met vrijwel nul thermische uitzetting.