Was ist der Hauptgrund, dass für Halbleiter-Entwickler organische Basen wie TMAH statt Natriumhydroxid u. Ä. verwendet werden?

Antwort: C. Um Kontamination durch Metallionen wie Natrium zu vermeiden

Alkalimetallionen wie Natrium und Kalium werden im Oxidfilm durch elektrische Felder zu beweglichen Ionen und verschieben die Schwellenspannung von Transistoren. Diese Natriumkontamination war die Hauptursache für die Instabilität früher MOS-Bauelemente. TMAH ist eine metallfreie organische Base, sodass eine solche Kontamination nicht zu befürchten ist. Farbe und Preis sind nicht der Grund der Wahl, und TMAH ist auch nicht stets preiswerter.