Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke uitspraak over de kenmerken van chloortrifluoride (ClF3), dat onder meer voor het reinigen van kamers van apparatuur wordt gebruikt, is juist?

  1. AHet is inert en reageert met vrijwel geen enkele stof
  2. BHet is extreem reactief en reageert hevig met veel stoffen, dus streng beheer is nodig
  3. CHet is onschadelijk en ventilatie is niet nodig
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Het is extreem reactief en reageert hevig met veel stoffen, dus streng beheer is nodig

ClF3 is extreem reactief en kan veel stoffen etsen zonder plasma, dus het wordt gebruikt voor het ter plaatse reinigen van afzettingen in kamers van bijvoorbeeld epitaxieapparatuur. Daar staat tegenover dat het hevig reageert met organische stoffen en veel metalen en kan ontbranden, en ook zeer giftig is, dus materiaalkeuze en lekmaatregelen worden streng uitgevoerd. Het is niet inert en niet onschadelijk; de hoge reactiviteit is zowel de reden voor het gebruik als voor het gevaar.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Wat is het juiste hoofdbestanddeel van het platingbad voor galvanisch koperplateren van Cu-bedrading?
  2. Welke uitspraak over risico’s in de toelevering van halfgeleidermaterialen is juist?
  3. Welk materiaal wordt gebruikt voor het substraat van fotomaskers voor ArF-belichting?
  4. Welke combinatie van materialen is juist voor de reflecterende meerlagen van EUV-maskers?
  5. Wat is de juiste reden dat bij het etsen van oxide een fluorkoolstofgas met een groot aandeel koolstof zoals C4F8 wordt gebruikt?