Nederlands
Menu

Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welk materiaal wordt gewoonlijk gebruikt voor het polijstkussen bij CMP?

  1. AWolfraam
  2. BGeschuimd polyurethaan
  3. CKwartsglas
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Geschuimd polyurethaan

Voor CMP-kussens wordt vaak geschuimd polyurethaan met fijne poriën gebruikt. De poriën en de groeven in het oppervlak houden de slurry vast en verdelen die over de hele wafer, en voeren polijstafval af. Bij gebruik raken de poriën verstopt en daalt de polijstsnelheid, dus wordt conditionering uitgevoerd waarbij het oppervlak met een schijf met ingebedde diamant wordt opgeruwd. Harde kussens zijn uitstekend in vlakheid, zachte kussens geven weinig krassen, en soms worden ze op elkaar gestapeld.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welk bronmateriaal is juist voor het inbrengen van p-type onzuiverheden (boor)?
  2. Welk apparaat wordt in leidingen geplaatst om sporen onzuiverheden en deeltjes te verwijderen uit gas vlak voordat het aan de apparatuur wordt geleverd?
  3. Welke combinatie van gassen is geschikt voor het opwekken van laserlicht in een ArF-excimeerlaser?
  4. Welk gas wordt bij epitaxiale groei en warmtebehandeling gebruikt als draaggas of reducerende atmosfeer?
  5. Welke uitspraak over de omgang met organometaalverbindingen zoals trimethylgallium (TMGa), de grondstoffen van MOCVD, is juist?