Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke combinatie van gassen is geschikt voor het opwekken van laserlicht in een ArF-excimeerlaser?

  1. AZuurstof en stikstof
  2. BAlleen waterstof en helium
  3. CArgon en fluor (met een buffergas zoals neon)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Argon en fluor (met een buffergas zoals neon)

Een ArF-excimeerlaser exciteert met een ontlading een gasmengsel van weinig argon en fluor, verdund met neon als buffergas, en zendt licht met een golflengte van 193 nm uit. Een excimeer is een molecuul dat alleen in aangeslagen toestand bindt (excited dimer) en uiteenvalt bij terugkeer naar de grondtoestand, waardoor efficiënt ultraviolet licht wordt verkregen. De KrF-excimeerlaser (248 nm) gebruikt krypton en fluor. Met zuurstof en stikstof of waterstof en helium wordt geen licht van 193 nm uitgezonden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welk gas wordt bij epitaxiale groei en warmtebehandeling gebruikt als draaggas of reducerende atmosfeer?
  2. Welke uitspraak over de omgang met organometaalverbindingen zoals trimethylgallium (TMGa), de grondstoffen van MOCVD, is juist?
  3. Wat is de juiste zuiverheid wanneer de zuiverheid van een gas wordt uitgedrukt als “6N”?
  4. Welk gas, dat in een halfgeleiderfabriek in een van de grootste hoeveelheden wordt gebruikt, wordt via leidingen geleverd als spoel- en atmosfeergas?
  5. Welke laag wordt bij ArF-immersiebelichting boven op de fotoresist aangebracht om te voorkomen dat het immersiewater en de resist rechtstreeks in contact komen?