Nederlands
Menu

Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welk gas wordt bij epitaxiale groei en warmtebehandeling gebruikt als draaggas of reducerende atmosfeer?

  1. AOzon
  2. BWaterstof (H2)
  3. CChloor
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Waterstof (H2)

Waterstof wordt gebruikt als draaggas dat de grondstoffen van epitaxiale groei transporteert en als reducerende atmosfeer die vóór de groei bij hoge temperatuur het natuurlijke oxide van het oppervlak verwijdert. Gloeien in formeergas, waterstof enkele procenten verdund met stikstof, verzadigt dangling bonds aan het Si/SiO2-grensvlak met waterstof en vermindert grensvlaktoestanden. Omdat boven ca. 4 % in lucht explosiegevaar bestaat, wordt het onder lekdetectie gebruikt. Ozon en chloor zijn oxiderende gassen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke uitspraak over de omgang met organometaalverbindingen zoals trimethylgallium (TMGa), de grondstoffen van MOCVD, is juist?
  2. Wat is de juiste zuiverheid wanneer de zuiverheid van een gas wordt uitgedrukt als “6N”?
  3. Welk gas, dat in een halfgeleiderfabriek in een van de grootste hoeveelheden wordt gebruikt, wordt via leidingen geleverd als spoel- en atmosfeergas?
  4. Welke laag wordt bij ArF-immersiebelichting boven op de fotoresist aangebracht om te voorkomen dat het immersiewater en de resist rechtstreeks in contact komen?
  5. Welk materiaal is een typisch voorbeeld van een low-k-tussenlaagdiëlektricum?