Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Wat is het belangrijkste gebruik van stikstoftrifluoride (NF3)?

  1. ALichtbron van belichtingsapparatuur
  2. BHoofdbestanddeel van platingbaden
  3. CReiniging om aan de wand van de kamer van CVD-apparatuur afgezette lagen te verwijderen
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Reiniging om aan de wand van de kamer van CVD-apparatuur afgezette lagen te verwijderen

Bij herhaalde CVD wordt ook op de binnenwand van de kamer een laag afgezet, die kan loskomen en deeltjes veroorzaakt. Met fluorradicalen uit door plasma ontlede NF3 worden deze afzettingen omgezet in vluchtige fluoriden en verwijderd. De remote-plasmamethode, waarbij het plasma buiten de kamer wordt gemaakt en alleen de radicalen worden toegevoerd, is gangbaar omdat daarmee schade aan onderdelen kan worden beperkt. Het aardopwarmingsvermogen van NF3 is groot, ca. 16.000 keer dat van CO2, dus het wordt in een afgasreiniger ontleed voordat het wordt uitgestoten.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke eenheden worden vaak gebruikt om de onzuiverheidsconcentratie van hoogzuivere gassen en chemicaliën voor halfgeleiders uit te drukken?
  2. Welk materiaal wordt gewoonlijk gebruikt voor het polijstkussen bij CMP?
  3. Welk bronmateriaal is juist voor het inbrengen van p-type onzuiverheden (boor)?
  4. Welk apparaat wordt in leidingen geplaatst om sporen onzuiverheden en deeltjes te verwijderen uit gas vlak voordat het aan de apparatuur wordt geleverd?
  5. Welke combinatie van gassen is geschikt voor het opwekken van laserlicht in een ArF-excimeerlaser?