Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques)
Quel est l'usage principal du trifluorure d'azote (NF3) ?
- ASource lumineuse des équipements d'exposition
- BConstituant principal des bains de dépôt électrolytique
- CNettoyage des films déposés à l'intérieur des chambres des équipements de CVD
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Réponse : C. Nettoyage des films déposés à l'intérieur des chambres des équipements de CVD
La répétition des dépôts CVD dépose aussi du film sur les parois internes de la chambre, qui s'écaille et génère des particules. Les radicaux fluor obtenus en décomposant le NF3 par plasma transforment ces dépôts en fluorures volatils et les éliminent. La méthode dominante est le plasma déporté, qui génère le plasma hors de la chambre et n'y envoie que les radicaux, ce qui limite l'endommagement des pièces. Le potentiel de réchauffement global du NF3 étant environ 16 000 fois celui du CO2, il est décomposé dans des systèmes d'abattement avant rejet.
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