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Lithographie

Quelle technique améliore la résolution en optimisant simultanément par calcul la forme de l'illumination de l'équipement d'exposition et les motifs du masque ?

  1. ASMO (optimisation source-masque)
  2. BCMP
  3. CALD
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Réponse : A. SMO (optimisation source-masque)

La SMO (Source Mask Optimization) optimise conjointement par calcul la forme de l'illumination de l'équipement d'exposition (distribution de la source dans le plan pupillaire) et les motifs du masque, OPC compris, afin d'élargir la fenêtre de procédé. L'ILT (lithographie inverse), qui calcule le masque à rebours à partir de la forme voulue sur le wafer et génère des motifs curvilignes libres, commence aussi à être utilisée depuis que l'écriture multifaisceau permet de dessiner des courbes. La charge de calcul étant énorme, elle est accélérée notamment par GPU.

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