Lithografie

Welche Technik optimiert die Beleuchtungsform der Belichtungsanlage und das Maskenmuster gleichzeitig per Rechner, um die Auflösung zu erhöhen?

  1. ASMO (Source Mask Optimization)
  2. BCMP
  3. CALD
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Antwort: A. SMO (Source Mask Optimization)

SMO (Source Mask Optimization) ist eine Technik, die die Beleuchtungsform der Belichtungsanlage (Verteilung der Lichtquelle in der Pupillenebene) und das Maskenmuster einschließlich OPC gemeinsam per Rechner optimiert, um das Prozessfenster zu erweitern. Auch ILT (Inverse Lithography Technology), die aus der gewünschten Form auf dem Wafer die Maske rückwärts berechnet und frei gekrümmte Muster erzeugt, wird eingesetzt, seit sich mit Multibeam-Schreiben Kurven schreiben lassen. Wegen des enormen Rechenaufwands wird mit GPUs u. Ä. beschleunigt.

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