Nederlands
Menu

Lithografie

Welke golflengte heeft het licht dat bij EUV-belichting wordt gebruikt?

  1. A193 nm
  2. B248 nm
  3. C13,5 nm
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. 13,5 nm

EUV-belichting (extreem ultraviolet) gebruikt licht met een golflengte van 13,5 nm, ongeveer 1/14 van die van ArF, en kan fijne patronen in één belichting vormen. Licht met deze golflengte wordt door vrijwel alle stoffen, waaronder lucht en glas, geabsorbeerd; daarom wordt in plaats van lenzen een reflecterend optisch systeem met multilayer-spiegels van molybdeen en silicium gebruikt en wordt het binnenste van het apparaat in vacuüm gehouden. De reflectie per spiegel is ongeveer 70%, en na bijna 10 spiegels gaat het grootste deel van het licht verloren, dus een sterke lichtbron is nodig.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke omschrijving van positieve fotoresist is juist?
  2. Welke omschrijving van ArF-immersiebelichting is juist?
  3. Welke omschrijving van double patterning (multipatterning) is juist?
  4. Wat gebeurt er in het algemeen met de scherptediepte (DOF) als de numerieke apertuur (NA) van het belichtingsapparaat wordt vergroot?
  5. Welke omschrijving van OPC (optical proximity correction) is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp