Lithografie
Welke methode verbetert, uitgaande van de resolutieformule R = k1 × λ / NA, de resolutie (maakt R kleiner)?
- ADe belichtingsgolflengte verkorten en de numerieke apertuur (NA) vergroten
- BDe belichtingsgolflengte verlengen en de NA verkleinen
- CDe belichtingsgolflengte verlengen en de NA vergroten
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. De belichtingsgolflengte verkorten en de numerieke apertuur (NA) vergroten
Volgens de formule van Rayleigh, R = k1·λ/NA, maakt men R kleiner door de golflengte λ te verkorten, de numerieke apertuur NA te vergroten en k1 te verlagen. De lichtbron is verkort in golflengte van g-lijn (436 nm), i-lijn (365 nm), KrF (248 nm) en ArF (193 nm) naar EUV (13,5 nm), en de NA is uitgebreid van ongeveer 0,3 tot 1,35 bij immersie. Bij ArF-immersie (NA 1,35, k1 0,27) is R ≈ 39 nm, en voor een fijnere pitch zijn multipatterning of EUV nodig.