Lithografie

Welke methode verbetert, uitgaande van de resolutieformule R = k1 × λ / NA, de resolutie (maakt R kleiner)?

  1. ADe belichtingsgolflengte verkorten en de numerieke apertuur (NA) vergroten
  2. BDe belichtingsgolflengte verlengen en de NA verkleinen
  3. CDe belichtingsgolflengte verlengen en de NA vergroten
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. De belichtingsgolflengte verkorten en de numerieke apertuur (NA) vergroten

Volgens de formule van Rayleigh, R = k1·λ/NA, maakt men R kleiner door de golflengte λ te verkorten, de numerieke apertuur NA te vergroten en k1 te verlagen. De lichtbron is verkort in golflengte van g-lijn (436 nm), i-lijn (365 nm), KrF (248 nm) en ArF (193 nm) naar EUV (13,5 nm), en de NA is uitgebreid van ongeveer 0,3 tot 1,35 bij immersie. Bij ArF-immersie (NA 1,35, k1 0,27) is R ≈ 39 nm, en voor een fijnere pitch zijn multipatterning of EUV nodig.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke golflengte heeft het licht dat bij EUV-belichting wordt gebruikt?
  2. Welke omschrijving van positieve fotoresist is juist?
  3. Welke omschrijving van ArF-immersiebelichting is juist?
  4. Welke omschrijving van double patterning (multipatterning) is juist?
  5. Wat gebeurt er in het algemeen met de scherptediepte (DOF) als de numerieke apertuur (NA) van het belichtingsapparaat wordt vergroot?

Vergelijkingen bij dit onderwerp