Welke omschrijving van ArF-immersiebelichting is juist?

Antwoord: C. De ruimte tussen de projectielens en de wafer wordt met water gevuld om de numerieke apertuur (NA) te vergroten

Bij immersiebelichting wordt de spleet van ongeveer 1 mm tussen projectielens en wafer gevuld met ultrazuiver water, dat een hogere brekingsindex heeft dan lucht (ongeveer 1) en bij 193 nm ongeveer 1,44 is. Omdat NA = n·sinθ, kan de numerieke apertuur groter dan 1 worden (maximaal 1,35) en kunnen bij dezelfde golflengte van 193 nm fijnere patronen worden opgelost. Het werd vanaf ongeveer 2006 in massaproductie ingevoerd, en er werden mondstuktechnieken ontwikkeld die het water ook bij snel bewegende wafers vasthouden, en resistoppervlaklagen waar water moeilijk in dringt.