Lithografie

Welche Wellenlänge des Lichts wird bei der EUV-Belichtung verwendet?

  1. A193 nm
  2. B248 nm
  3. C13,5 nm
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Antwort: C. 13,5 nm

Die EUV-Belichtung (extremes Ultraviolett) verwendet Licht der Wellenlänge 13,5 nm, etwa 1/14 der ArF-Wellenlänge, und kann feine Strukturen mit einer einzigen Belichtung erzeugen. Licht dieser Wellenlänge wird von fast allen Stoffen einschließlich Luft und Glas absorbiert, daher wird statt Linsen eine Reflexionsoptik mit Molybdän-Silizium-Vielschichtspiegeln verwendet und das Anlageninnere evakuiert. Die Reflektivität eines Spiegels beträgt etwa 70 %, und nach fast zehn Spiegeln geht der Großteil des Lichts verloren, daher ist eine starke Lichtquelle nötig.

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