Lithographie
Quelle est la longueur d'onde de la lumière utilisée en lithographie EUV ?
- A193 nm
- B248 nm
- C13,5 nm
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Réponse : C. 13,5 nm
La lithographie EUV (ultraviolet extrême) utilise une lumière de 13,5 nm de longueur d'onde, environ 1/14 de celle de l'ArF, ce qui permet de former des motifs fins en une seule exposition. Cette lumière étant absorbée par presque toutes les matières, y compris l'air et le verre, on utilise non pas des lentilles mais une optique réflective à miroirs multicouches molybdène-silicium, et l'intérieur de l'équipement est sous vide. La réflectivité d'un miroir est d'environ 70 % ; après une dizaine de miroirs, la majeure partie de la lumière est perdue, d'où la nécessité d'une source puissante.