Nederlands
Menu

Ionenimplantatie

Welke combinatie van in silicium geïmplanteerde dopeerstof en geleidingstype is juist?

  1. AFosfor: p-type, arseen: p-type
  2. BBoor: n-type, fosfor: p-type
  3. CBoor: p-type, fosfor en arseen: n-type
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Boor: p-type, fosfor en arseen: n-type

Boor uit groep III werkt als acceptor en maakt p-type; fosfor en arseen uit groep V werken als donor en maken n-type. Daarnaast worden voor n-type soms antimoon en voor p-type indium en gallium gebruikt. Bij ionenimplantatie worden deze elementen in de benodigde hoeveelheid op de gewenste plaats geschoten; zo ontstaan voor nMOS n-type source en drain met een p-type well en voor pMOS het omgekeerde, waarmee CMOS wordt opgebouwd.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Welk bereik komt het best overeen met het dosisbereik van ionenimplantatie dat bij de fabricage van LSI's wordt gebruikt?
  2. Wat is de belangrijkste reden om het pad van de bundel in een ionenimplanter onder hoog vacuüm te houden?
  3. Wat is de juiste volgorde waarin ionen door een gangbare ionenimplanter gaan?
  4. Welke relatie tussen de range van arseen (massagetal 75) en fosfor (massagetal 31) is juist bij implantatie in silicium met dezelfde versnellingsenergie?
  5. Hoe groot is de energie van tweewaardige ionen (dubbele lading) die in een ionenimplanter met een versnelspanning van 50 kV worden versneld?

Vergelijkingen bij dit onderwerp