Welk bereik komt het best overeen met het dosisbereik van ionenimplantatie dat bij de fabricage van LSI's wordt gebruikt?

Antwoord: B. Ongeveer 10¹¹-10¹⁶ cm⁻²

Bij onder meer drempelspanningsinstelling wordt ongeveer 10¹¹-10¹³ cm⁻² gebruikt, voor lage weerstand van source, drain en gate rond 10¹⁵ cm⁻², en voor waterstof bij Smart Cut 10¹⁶ cm⁻² of meer, een breed bereik van in totaal meer dan 5 ordes van grootte. Bij een implantatie van 10¹² cm⁻² komen er 1 biljoen ionen per cm², wat slechts ongeveer een duizendste is van het aantal atomen aan het oppervlak. Een sterk punt van ionenimplantatie is dat dit brede bereik met een nauwkeurigheid van ongeveer ±1% kan worden geregeld.