Ionenimplantation

Welche Kombination aus in Silizium implantiertem Dotierstoff und Leitungstyp ist korrekt?

  1. APhosphor: p-Typ, Arsen: p-Typ
  2. BBor: n-Typ, Phosphor: p-Typ
  3. CBor: p-Typ, Phosphor und Arsen: n-Typ
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Antwort: C. Bor: p-Typ, Phosphor und Arsen: n-Typ

Bor aus Gruppe III erzeugt als Akzeptor den p-Typ, Phosphor und Arsen aus Gruppe V als Donatoren den n-Typ. Daneben werden für n-Typ auch Antimon, für p-Typ Indium oder Gallium verwendet. Bei der Ionenimplantation werden diese Elemente in der nötigen Menge an der gewünschten Stelle eingebracht, und CMOS entsteht, indem beim nMOS n-leitendes Source/Drain und eine p-Wanne, beim pMOS das Umgekehrte hergestellt werden.

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