Nederlands
Menu

Ionenimplantatie

Welke eenheid wordt gewoonlijk gebruikt om de versnellingsenergie bij ionenimplantatie uit te drukken?

  1. AΩ (ohm)
  2. BkeV (kiloelektronvolt)
  3. CW (watt)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. keV (kiloelektronvolt)

De energie bij ionenimplantatie wordt uitgedrukt in elektronvolt, waarbij de energie van een eenwaardig ion dat met 1 V wordt versneld 1 eV is. Het gebruikelijke bereik is enkele honderden eV tot enkele honderden keV, en bij implantatie met hoge energie enkele MeV. 1 keV is ongeveer 1,6×10⁻¹⁶ J; als energie van één ion is dat zeer groot en tientallen tot duizenden malen de ongeveer 15 eV die nodig is om één siliciumatoom weg te slaan, waardoor kristalschade ontstaat.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Welke combinatie van in silicium geïmplanteerde dopeerstof en geleidingstype is juist?
  2. Welk bereik komt het best overeen met het dosisbereik van ionenimplantatie dat bij de fabricage van LSI's wordt gebruikt?
  3. Wat is de belangrijkste reden om het pad van de bundel in een ionenimplanter onder hoog vacuüm te houden?
  4. Wat is de juiste volgorde waarin ionen door een gangbare ionenimplanter gaan?
  5. Welke relatie tussen de range van arseen (massagetal 75) en fosfor (massagetal 31) is juist bij implantatie in silicium met dezelfde versnellingsenergie?

Vergelijkingen bij dit onderwerp