Ionenimplantatie

Welke relatie tussen de range van arseen (massagetal 75) en fosfor (massagetal 31) is juist bij implantatie in silicium met dezelfde versnellingsenergie?

  1. AArseen dringt dieper door
  2. BBeide dringen even diep door
  3. CHet zware arseen komt ondieper tot stilstand
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Het zware arseen komt ondieper tot stilstand

Bij dezelfde energie verliest een zwaarder ion per botsing meer energie en heeft het een lagere snelheid, zodat het op geringere diepte tot stilstand komt. Bij 50 keV is Rp van fosfor (massa 31) bijvoorbeeld ongeveer 60 nm, terwijl arseen (massa 75) ongeveer 30 nm heeft. Arseen heeft een korte range, een scherpe verdeling en een langzame diffusie en is daarom geschikt voor de ondiepe source en drain van nMOS. Fosfor wordt gebruikt voor diepe wells en lagen die zonder hoge energie dieper moeten worden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Hoe groot is de energie van tweewaardige ionen (dubbele lading) die in een ionenimplanter met een versnelspanning van 50 kV worden versneld?
  2. Welke ionenimplanter wordt vooral gebruikt voor implantaties met een gemiddelde dosis, zoals de drempelspanningsinstelling van MOSFET's en wells?
  3. Hoe heet het paar van een vacature en een interstitieel atoom dat in het kristal ontstaat wanneer een geïmplanteerd ion een siliciumatoom wegslaat?
  4. Wat is de belangrijkste reden om de wafer tijdens ionenimplantatie met grote stroom te koelen?
  5. Welke verdeling van de door ionenimplantatie veroorzaakte kristalschade is in het algemeen juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp