Ionenimplantatie
Welke relatie tussen de range van arseen (massagetal 75) en fosfor (massagetal 31) is juist bij implantatie in silicium met dezelfde versnellingsenergie?
- AArseen dringt dieper door
- BBeide dringen even diep door
- CHet zware arseen komt ondieper tot stilstand
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Het zware arseen komt ondieper tot stilstand
Bij dezelfde energie verliest een zwaarder ion per botsing meer energie en heeft het een lagere snelheid, zodat het op geringere diepte tot stilstand komt. Bij 50 keV is Rp van fosfor (massa 31) bijvoorbeeld ongeveer 60 nm, terwijl arseen (massa 75) ongeveer 30 nm heeft. Arseen heeft een korte range, een scherpe verdeling en een langzame diffusie en is daarom geschikt voor de ondiepe source en drain van nMOS. Fosfor wordt gebruikt voor diepe wells en lagen die zonder hoge energie dieper moeten worden.