Nederlands
Menu

Ionenimplantatie

Welke eenheid drukt de dosis van ionenimplantatie juist uit?

  1. AeV
  2. Bions/cm² (aantal ionen per oppervlakte-eenheid)
  3. CΩ/□
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. ions/cm² (aantal ionen per oppervlakte-eenheid)

De dosis is het aantal ionen dat per oppervlakte-eenheid van de wafer is geïmplanteerd en wordt uitgedrukt in ions/cm² (of atoms/cm²). 10¹⁵ cm⁻² is bijvoorbeeld van dezelfde orde als het aantal atomen aan het siliciumoppervlak (ongeveer 7×10¹⁴ cm⁻²). eV is de eenheid van de versnellingsenergie van ionen en Ω/□ is de eenheid van de laagweerstand; de laagweerstand na implantatie wordt vaak gebruikt om dosis en activeringsgraad te controleren.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Welke maatregel om ondiepe juncties te maken in source en drain van kleine transistors is juist?
  2. Welke combinatie van de verdeling die de diepteverdeling van de dopeerstof na ionenimplantatie bij benadering beschrijft en de grootheid die de diepte van de piek aangeeft, is juist?
  3. Welk deel van een ionenimplanter selecteert met een magnetisch veld alleen de gewenste ionensoort?
  4. Wat is het belangrijkste voordeel van ionenimplantatie ten opzichte van thermische diffusie?
  5. Wat is het juiste doel van pre-amorphization implant (PAI)?

Vergelijkingen bij dit onderwerp