Ionenimplantation
Welche Einheit gibt die Dosis der Ionenimplantation an?
- AeV
- Bions/cm² (Ionenzahl pro Flächeneinheit)
- CΩ/□
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Antwort: B. ions/cm² (Ionenzahl pro Flächeneinheit)
Die Dosis ist die Zahl der pro Flächeneinheit des Wafers implantierten Ionen und wird in ions/cm² (oder atoms/cm²) angegeben. 10¹⁵ cm⁻² entspricht beispielsweise etwa der Zahl der Atome an der Siliziumoberfläche (ca. 7×10¹⁴ cm⁻²). eV ist die Einheit der Beschleunigungsenergie der Ionen, Ω/□ die des Schichtwiderstands; der Schichtwiderstand nach der Implantation wird häufig zur Kontrolle von Dosis und Aktivierungsgrad verwendet.