Ionenimplantatie

Welk deel van een ionenimplanter selecteert met een magnetisch veld alleen de gewenste ionensoort?

  1. AIonenbron
  2. BEindstation (waferverwerkingskamer)
  3. CMassa-analysator
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Massa-analysator

In de ionenbron ontstaan ook andere ionen dan gewenst en moleculaire ionen (bijvoorbeeld B⁺, BF⁺ en BF2⁺ uit BF3), dus buigt de massa-analysator met een magnetisch veld de baan van de ionen. De mate van buiging wordt bepaald door de verhouding tussen massa en lading, zodat alleen de gewenste ionen die door de spleet aan de uitgang passen, worden geselecteerd. Als een ander element met dezelfde massa meekomt, ontstaat contaminatie, dus daar is voorzichtigheid geboden. De geselecteerde ionen worden versneld, gescand en in de wafer geïmplanteerd.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Wat is het belangrijkste voordeel van ionenimplantatie ten opzichte van thermische diffusie?
  2. Wat is het juiste doel van pre-amorphization implant (PAI)?
  3. Wat wordt gebruikt om oplading (charge-up) van de wafer tijdens ionenimplantatie te onderdrukken?
  4. Eenwaardige ionen worden geïmplanteerd in een wafer met een oppervlak van 100 cm² met een dosis van 1×10¹⁵ ions/cm². Hoe lang duurt de implantatie ongeveer bij een bundelstroom van 1 mA? (Elementaire lading 1,6×10⁻¹⁹ C)
  5. Hoe heet bij de wellvorming in CMOS de well waarin met hoge-energie-ionenimplantatie de dopeerconcentratie dieper dan aan het oppervlak hoog is gemaakt?

Vergelijkingen bij dit onderwerp