Interconnectprocessen

Bij de productie voor backside power delivery wordt een wafer met transistors en bedrading aan de voorzijde op een dragerwafer gebond, wordt het oorspronkelijke substraat vanaf de achterkant gedund en wordt daarna de voedingsbedrading aan de achterzijde gevormd. Wat wordt in dit proces bijzonder moeilijk?

  1. AHet aantal signaalbedradingslagen aan de voorzijde neemt toe, wat de congestie van de bedrading verergert
  2. BBonden en dunnen vervormen de wafer, waardoor het moeilijk wordt de patronen aan de achterzijde nauwkeurig op de transistors aan de voorzijde uit te lijnen
  3. CHet pad van de voeding naar de transistors wordt langer, wat de IR-drop vergroot
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Bonden en dunnen vervormen de wafer, waardoor het moeilijk wordt de patronen aan de achterzijde nauwkeurig op de transistors aan de voorzijde uit te lijnen

Bij backside power delivery wordt de wafer omgedraaid en gebond, tot een dikte tussen enkele honderden nanometers en enkele micrometers gedund, en wordt de voeding vanaf de achterkant vlak bij de transistors aangesloten. Het bonden vervormt de wafer niet-uniform, zodat het moeilijk wordt de belichting aan de achterzijde nauwkeurig uit te lijnen op de transistors aan de voorzijde en op elk contact. Eenvoudige fouten zoals een algehele uitzetting of rotatie kan de belichtingsmachine corrigeren, maar complexe vervormingen die van plaats tot plaats verschillen zijn moeilijk te corrigeren, en bondmethoden en metrologie worden verbeterd. Het verplaatsen van de voedingsbedrading naar de achterzijde vermindert juist de congestie aan de voorzijde en de IR-drop.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Verwante rekentools

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Wat is de belangrijkste reden waarom het bedradingsmateriaal van geavanceerde LSI's van aluminium (Al) door koper (Cu) is vervangen?
  2. Welke omschrijving van het damascene-proces, dat algemeen wordt gebruikt voor het vormen van Cu-bedrading, is juist?
  3. Wat is het belangrijkste doel van het gebruik van Low-k-materiaal (lage diëlektrische constante) voor de tussenlaagisolatiefilm?
  4. Wat is het belangrijkste doel van een barrièremetaal zoals Ta of TaN bij Cu-bedrading?
  5. Welke omschrijving van een via in meerlaagse bedrading is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp