CMP en reiniging
Wat is het belangrijkste doel van reiniging met ultrazuiver water waarin ozon is opgelost (ozonwater)?
- AEen metaalfilm afzetten
- BDe wafer polijsten
- COrganische stoffen door oxidatie ontleden en verwijderen
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Organische stoffen door oxidatie ontleden en verwijderen
Ozonwater, met enkele tot enkele tientallen ppm opgeloste ozon, heeft een sterke oxiderende werking en kan bij kamertemperatuur organische stoffen oxidatief ontleden en een dunne oxidefilm op het siliciumoppervlak vormen. Na gebruik valt het uiteen in zuurstof, zodat de behandeling van afvalvloeistof eenvoudig is, en het wordt gebruikt als reiniging met een lage milieubelasting, die ten opzichte van SPM, dat veel zwavelzuur en waterstofperoxide gebruikt, minder chemicaliën en CO2-uitstoot vergt. Het wordt ook toegepast in reiniging die afwisselend met verdund fluorwaterstofzuur wordt uitgevoerd.