CMP und Reinigung

Was ist der Hauptzweck der Reinigung mit in Reinstwasser gelöstem Ozon (Ozonwasser)?

  1. AEinen Metallfilm abzuscheiden
  2. BDen Wafer zu polieren
  3. COrganische Stoffe durch Oxidation zu zersetzen und zu entfernen
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Antwort: C. Organische Stoffe durch Oxidation zu zersetzen und zu entfernen

Ozonwasser mit einigen bis einigen zehn ppm gelöstem Ozon besitzt eine starke Oxidationskraft, zersetzt organische Stoffe bei Raumtemperatur oxidativ und kann auf der Siliziumoberfläche einen dünnen Oxidfilm bilden. Da es nach Gebrauch zu Sauerstoff zerfällt, ist die Abwasserbehandlung einfach; im Vergleich zu SPM u. Ä., das große Mengen Schwefelsäure und Wasserstoffperoxid verbraucht, wird es als umweltschonende Reinigung mit geringerem Chemikalienverbrauch und CO2-Ausstoß eingesetzt. Es findet auch in Reinigungsfolgen im Wechsel mit verdünnter Flusssäure Anwendung.

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