CMP en reiniging

Wat is de rol van de retainer ring die in de CMP-polijstkop rond de wafer zit?

  1. ADe wafer koelen
  2. BDe slurry kleuren
  3. CDe wafer tijdens het polijsten vasthouden zodat hij er niet uit schiet en variatie in polijsten aan de waferrand onderdrukken
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. De wafer tijdens het polijsten vasthouden zodat hij er niet uit schiet en variatie in polijsten aan de waferrand onderdrukken

De retainer ring is een kunststof ring rond de omtrek van de wafer die in de polijstkop wordt vastgehouden. Hij voorkomt dat de wafer tijdens het polijsten zijwaarts wegschiet en houdt de pad iets buiten de wafer omlaag, zodat vervorming waarbij de pad aan de rand van de wafer omhoog komt of inzakt wordt onderdrukt en de variatie van de polijstdikte over enkele mm aan de omtrek kleiner wordt. De ring zelf wordt door de pad weggeslepen en slijt, zodat hij periodiek wordt vervangen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over CMP en reiniging

  1. Welke reden is juist waarom deeltjes die eenmaal zijn losgekomen in een alkalische reinigingsvloeistof zoals SC-1 moeilijk opnieuw aanhechten?
  2. Welk probleem wordt veroorzaakt door metaalverontreiniging zoals ijzer en koper op het waferoppervlak?
  3. Wat is de belangrijkste oorzaak van fijne krassen (scratches) op het waferoppervlak bij CMP?
  4. Welke methode verwijdert natuurlijk oxide enz. van het oppervlak zonder vloeistof te gebruiken om het instorten van fijne structuren te voorkomen?
  5. Welke combinatie van processen waarin CMP wordt gebruikt is juist?